針對特定應用的定制解決方案
為了確保鍍膜工藝的成功和可重復性,我們開發了一個可旋轉、可加熱的基材臺,從而可實現良好的均勻性和鍍膜質量。
為了滿足您的不同需求,我們提供了由三個主要版本組成的模塊化系統:
- 基本型
 - 高級型
 - 全功能型
 
我們可以從中推導出 576 種可能的版本!
模塊化系統
基于其模塊化原理,TWISTER™ 基材臺是一種典型的可升級設備,僅在添加真空進樣室時需要額外的氣動夾具。如果需要冷卻,只需將加熱板更換為加熱和冷卻組合板即可。
精準操控,獲得精確結果
- 通過精確旋轉基材,獲得均勻一致的薄膜
 - 可選的 Z-shift,用于調整基材與鍍膜源的距離,并用于真空進樣室轉移
 - 基材板靈活可調,直徑可達 6 英寸
 - 通過加熱至 400 °C 改善鍍層質量
 - 可選水冷卻:
 - 易于更換的鍍膜護罩,便于清潔
 - 包含位置控制
 - 可對大多數現有實驗室鍍膜設備進行升級
 
                
            
                                    
                                    
                                    
                                    
                                    
                                    
                        
                        
                    
            
        